半導体の製造プロセスを“一気通貫”で最適化！AI活用により企業の壁を越えスピーディな性能改善に貢献

名古屋大学 未来材料・システム研究所の宇治原 徹 教授、理化学研究所 革新知能統合研究センターの沓掛 健太朗 客員研究員（現 名古屋大学 未来材料・システム研究所 准教授）、グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社の永井 勇太 参事、アイクリスタル株式会社の髙石 将輝 代表取締役、関 翔太 取締役技術統括、ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング株式会社の谷川 公一 主幹技師 らの研究グループは、Siウェーハ製造プロセスからCIS製造プロセスまでのデジタルツインを仮想空間上に構築して最適化することで、企業の壁を越えた最適化を実現しました。

詳細は名古屋大学 研究成果発信サイトをご覧ください。

報道担当

理化学研究所 広報室 報道担当
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